佛山某半导体鑫霖环保芯片鑫霖环保芯片研制厂，晶圆加工治理历程中带来含硅、氟的特色废渣，构思治理占比1200吨/日。废渣组成复杂的，富含微米级硅粉末及氢佛酸，过去的治理步骤未能标准。 污水组成成分及源于 注意弄脏物 ：电解质溶液硅（100-500nm粒级）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 源头步骤 ：晶圆刻蚀工业生产废水（45%）、CMP有机化学厂家增加光泽工业生产废水（40%）、设施设备清洗水（15%） 清理制作工艺生产工艺流程 全新通过"物理化学发展+特总膜转移"新技术途径： 钙盐放置 ：加药氯化钙出掉氟化合物（绘制CaF2放置） 二沉池反应迟钝 ：和好二沉池剂完成溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜挪作他用微细颗粒物 反渗透膜法系统化 ：脱盐率>98%，收回率75% 蒸发掉晶体 ：浓水段做到氟化物零废气排放 最终能够目的 氟化物氧化还原电位：<8mg/L（如果低于國家1级准则10mg/L） 硅含水量：<5mg/L 水资源保护量循环率：70%广泛用于降温塔保湿补水 垃圾减轻：多效蒸发残余物量较传统意义工艺设备极大减少60%