某半导体芯片打造各个企业因晶圆清洁工作工艺程序形成含氨工业废水，供水量200吨/天。工业废水里除氯离子外还具有氟化物和氢化物发生器血本属，整理难易大。偏远地区排放量规则规定氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废渣基本成分及来历 晶圆洁净化工废水（重点来源于）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀环节污水：含微量分析铜、镍等血本属，pH值下跌大 CMP碾磨污水：含硅颗粒肥料及化学需氧量 解决加工过程流量 主要包括"催化水解+膜提取+折点氯化"搭档加工制作工艺 ： 预处里 ：添加CaCl2除氟，把控pH在7.5-8. 超滤膜整体 ：去掉0.01μm以下粉末物 反进行渗透精提 ：将氧化还原电位萃取至1000mg/L及以上 折点氯化 ：精准度调控氯加药系统量，将氯离子转为为N2 正离子更换 ：切实保障天价属及格 最中效率 氧化还原电位稳定的＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属纯度不低于检侧限 水循环率达75% 活性污泥有量变少40%