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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆加工厂建在华东省市省市,关键分娩方式8英尺半导体技术晶圆,平均污水尾气废气排放标准单位量约800吨。犹豫分娩方式进程中用多氢佛酸实施晶圆蚀刻,引起污水里面的氟化物浓度值达到了200-300mg/L,远超欧洲国家尾气废气排放标准单位标准单位(10mg/L下面)。 生产废水材质及特征 废污水其主要出自这三个过程: 晶圆蚀刻繁琐流程 :含低浓度值氟化物(HF)、盐酸及一少部分天价属 物理化学机械性磨光(CMP)污废水 :含奈米级硅粒子、有机物络合剂 设配清洁工作废渣 :含异丙醇、高锰酸盐指数等充分物 治理 艺流程图 选取"无机化学析出+混凝土析出+角度净化"三级考试工作模式: 6级工作 :添加氯化钙和氢被氧化钙,建立氟化钙放置,氟化物的还原率达85% 2级治理 :加PAC(配位碱式氯化铝)和PAM(聚丙烯塑料酰胺),我们要除电解质溶液态空气废水 三級整理 :进行多导电介质滤水器和灵活性碳溶解,喷水氟化物溶液浓度维持在8mg/L下类 重点机涵盖:pH自主调试设计、斜管乳浊液池、板框飞灰压滤机(飞灰脱水过滤)。 后面结果 活动启用5年监测网统计数据提示 : 氟化物平均水平氧化还原电位:7.2mg/L(少于国内原则) COD祛除率:92% 淤泥含水分率:≤65% 年的回收合理利用氟化钙副设备约150吨,保持资源英文化合理利用

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